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简介 在电子半导体制造过程中,哪怕是万亿分之一(PPT级)的金属离子污染,都可能导致整批晶圆报废。作为流体系统的关键组件,软管必须具备近乎完美的化学惰性。DELOX(德璐氏)工业 近期为国内某知名晶圆代工厂(Foundry)提供了完整的高纯流体传输解决方案。1. 客户背景与核心痛点 (Case Background)该客户在湿法清洗(Wet Etc

在电子半导体制造过程中,哪怕是万亿分之一(PPT级)的金属离子污染,都可能导致整批晶圆报废。作为流体系统的关键组件,软管必须具备近乎完美的化学惰性。DELOX(德璐氏)工业 近期为国内某知名晶圆代工厂(Foundry)提供了完整的高纯流体传输解决方案。

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1. 客户背景与核心痛点 (Case Background)

该客户在湿法清洗(Wet Etch & Clean)工艺线中,需要输送 18.2MΩ·cm 的高纯水(UPW)以及 85% 的热磷酸。原有的流体连接件存在以下风险:

  • 析出物风险: 普通塑料软管在酸性条件下会析出微量金属离子和总有机碳(TOC)。

  • 颗粒产生: 软管内壁不够平滑,长期冲刷会产生微小聚合物颗粒(Particles)。

  • 渗透性问题: 化学品透过管壁对外部环境造成腐蚀风险。

2. DELOX 深度定制方案 (The Solution)

针对半导体行业对“纯净度”的极致追求,DELOX 技术部推荐了 UHP(超高纯)系列氟聚合物软管总成

核心材质:电子级 PFA/PTFE

我们选用了经特殊改性的电子级 PFA 内衬,具有极低的孔隙率。通过受控的生产环境,确保软管在接触强酸时展现出卓越的化学惰性。

密封技术:Flare(扩口)与无死角连接

为了彻底消灭细菌滋生和颗粒积聚的死角,DELOX 采用了专有的一体化扩口成型技术。接头处无任何内台阶,确保流体流道呈现完美的“全通径”状态。

3. 实测表现与价值交付 (Implementation Results)

监测指标DELOX UHP 系列表现行业标准要求
金属离子析出 (Metal Ions)< 5 PPT符合 SEMI 标准
表面粗糙度 (Ra)&le; 0.15 &mu;m极高平滑度
清洗验证周期缩短 40%显著提升效率

4. DELOX 在半导体领域的优势

  • 洁净室包装: 所有电子级软管均在 Class 100 洁净室内进行双层真空包装。

  • 全面合规: 符合 SEMI F57 等半导体行业最严苛的材质认证。

  • 可追溯性: 依托 HoseDB 数据库,每一根软管的批次物性测试报告均可实时在线追溯。

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